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  中國(guó)科學(xué)院理化技術(shù)研究所吳雨辰研究員在特約專論中系統(tǒng)評(píng)述了高分子功能材料圖案化制備及其在光電領(lǐng)域中的應(yīng)用�；诟叻肿庸δ懿牧系男滦凸怆娖骷蚱浼嫒菪院�、成本低、加工處理方便等特點(diǎn)逐漸走入人們的視野。其中，對(duì)于高分子材料的精確可控加工，尤其是在微納尺度范圍內(nèi)(精確控制高分子鏈堆積有序性、堆積取向；調(diào)控微納結(jié)構(gòu)的尺寸、位置等)的精確加工技術(shù)，是目前限制其從合成制備到實(shí)現(xiàn)光電器件的大規(guī)模生產(chǎn)應(yīng)用的關(guān)鍵因素。

  該文章首先系統(tǒng)介紹了各類高分子材料圖案化技術(shù)包括光刻法、模具誘導(dǎo)法、印刷法和浸潤(rùn)性調(diào)控組裝法，主要論述了各類方法的操作特點(diǎn)、應(yīng)用范圍等。隨后，文章基于該課題組的工作歸納總結(jié)了基于高分子功能材料陣列的各類光電器件及其研究進(jìn)展。最后，文章對(duì)高分子材料圖案化技術(shù)在光電領(lǐng)域應(yīng)用的現(xiàn)有局限進(jìn)行了討論，對(duì)未來(lái)該領(lǐng)域潛在的研究熱點(diǎn)進(jìn)行了展望。

  此文發(fā)表在《高分子學(xué)報(bào)》2020年第5期“高分子優(yōu)秀青年學(xué)者專輯”專論欄目，本文的通訊作者是吳雨辰研究員。

  論文鏈接：http://www.gfzxb.org/fileGFZXB/journal/article/gfzxb/newcreate/gfzxb20190218wuyuchen.pdf