| 簡介： |
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采用真空鍍膜工藝在微晶玻璃襯底上沉積了WO3薄膜，WO3薄膜從300~600℃分別進行了退火熱處理,隨著退火熱處理溫度的不同，WO3薄膜從晶粒尺寸上以及晶相上都發(fā)生了較大的變化，并用SEM、XRD等手段進行了分析，隨著退火熱處理溫度的升高，WO3晶粒逐漸增大，并實現(xiàn)了從非晶向晶態(tài)的轉(zhuǎn)變，最終得到了六方結構并且是在[100]方向上擇優(yōu)取向的WO3薄膜，獲得了穩(wěn)定性較好的工藝條件，為進一步開發(fā)研制WO3氣敏元件提供了技術基礎。 |
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