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    有序圖案構(gòu)筑與響應(yīng)功能是材料科學(xué)、信息科學(xué)和生命科學(xué)等多學(xué)交叉的新方向。高分子微納圖案化不僅能夠滿足微加工技術(shù)發(fā)展趨勢的要求，而且具有突出優(yōu)勢。因此，被認(rèn)為是未來發(fā)展不依賴于傳統(tǒng)刻蝕技術(shù)的微加工技術(shù)的新方向。高分子薄膜去潤濕誘導(dǎo)有序圖案構(gòu)筑是一種"自下而上"制備大面積圖案的有效方法。

    中國科學(xué)院長春應(yīng)化所高分子化學(xué)與物理國家重點實驗室韓艷春課題組圍繞“高分子薄膜去潤濕誘導(dǎo)有序圖案構(gòu)筑”這一重要主題展開了多年研究，取得了系列研究成果。近期，該課題組為高分子權(quán)威綜述雜志《高分子科學(xué)進(jìn)展》（Longjian Xue and Yanchun Han, Pattern formation by dewetting of polymer thin film, Progress in Polymer Science， 2011, 36 (2), 269-293）撰寫了相關(guān)綜述。

    綜述系統(tǒng)介紹了高分子薄膜去潤濕機(jī)理，然后從理論和實驗兩方面就高分子薄膜去潤濕誘導(dǎo)有序圖案構(gòu)筑展開了廣泛而深入的討論，包括物理、化學(xué)圖案化基底誘導(dǎo)的去潤濕圖案化、物理受限條件下的去潤濕圖案化、薄膜表面拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)誘導(dǎo)的去潤濕圖案化和三相線運動過程誘導(dǎo)的去潤濕圖案化等。最后就高分子薄膜潤濕誘導(dǎo)圖案化技術(shù)與其他技術(shù)的交叉結(jié)合以及應(yīng)用進(jìn)行了深入討論，并對高分子薄膜去潤濕誘導(dǎo)有序圖案構(gòu)筑的未來發(fā)展進(jìn)行了展望。